快速退火炉RTP-Table-6产品介绍
概要
RTP-Table-6是在保护气氛下的桌面手动快速退火系统,以红外可见光加热单片Wafer 或样品,工艺时间短,控温精度高,适用 2-6 英寸晶片。相对于传统扩散炉退火系 统和其他 RTP 系统,其独特的腔体设计、先进的温度控制技术和独有的RL900软件控制系统,确保了极好的热均匀性。
产品特点
▲红外卤素灯管加热,冷却采用风冷;
▲灯管功率PID控温,可精准控制温度升温,保证良好的重现性与温度均匀性;
▲采用平行气路进气方式,气体的进入口设置在Wafer表面,避免退火过程中冷点产生,保证产品良好的温度均匀性;
▲大气与真空处理方式均可选择,进气前气体净化处理;
▲标配两组工艺气体,最多可扩展至6组工艺气体;
▲可测单晶片样品的最大尺寸为6英寸(150mm);
▲采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施,全方位保障仪器使用安全。
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A、氧化物、氮化物生长
B、硅化物合金退火
C、砷化镓工艺
D、欧姆接触快速合金
E、氧化回流
F、其他快速热处理工艺
基本配置
项目 | 指标 |
最大产品尺寸 | 6寸晶圆或者最大支持150x150mm产品 |
温度范围 | 室温~1250℃ |
最高升温速度 | 100℃/s可编程(此温度为不含载盘的升温速度) |
温度均匀度 | ±5℃≤ 500℃ ±1% >500℃ |
温度控制重复性 | ±1℃ |
温控方式 | 快速 PID 温控 |
衬底冷却方式 | 氮气吹扫 |
工艺气体 | MFC控制,常规三路气体(N/O/GN) |
控制方式 | 工业电脑+PC control |