【快速退火炉】（RapidThermalProcessing简称RTP）是一种在最短的时间内对设备开展高温加热和冷却的技术。
快速退火炉的原理是运用高功率的激光或者电阻加热使试品快速升温到所需要的温度，然后通过调节升温时间和冷却速率，使试品在高温下保持一定的时间，并迅速冷却到室温。这类高速加热和冷却的过程可以有效地改善材料的性能。
1.材料改性-通过快速退火炉能够改变材料的晶体结构和相变行为，从而改善其电学、光学、磁学等性能。比如，能通过快速退火炉来提高晶体的结晶度和晶粒尺寸，提高材料的导电性能。
2.薄膜沉积-快速退火炉可用作热化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）等薄膜沉积技术的后处理。通过快速退火，可以提高薄膜的结晶度和致密性，改善薄膜的生长质量。
3.制取纳米材料-快速退火炉可用作制取纳米材料。通过调节快速退火时间和温度，还可以在材料上产生纳米颗粒或纳米结构，从而改善材料的光学、电学等性质。
4.半导体器件制取-快速退火炉在半导体器件制取中具有重要应用。它可用作离子注入后材料去损伤和结构修补，及其材料的活化和晶体的再配向等。
【快速退火炉】技术在材料科学和半导体工艺等领域具有重要实用价值，能够改变材料的结构和性能，并且为新材料的开发与器件制取提供强有力的支持。