【TC Wafer】【快速退火炉】RTP-SA-12半自动快速退火炉

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广东瑞乐科技专注于高精度温测、温控设备的生产和研发定做,为半导体行业提供科学的国产解决方法,更多有关快速退火炉  TC Wafer  晶圆测温系统资讯请关注瑞乐官网

RTP-SA-12RTP-SA-12半自动快速退火炉是在保护气氛下的半自动立式快速退火系统,以红外可见光加热单片Wafer或样品,工艺时间短,控温精度高,适用4-12英寸晶片。相对于传统扩散炉退火系统和其他RTP系统,其独特的腔体设计、先进的温度控制技术和独有的RL900软件控制系统,确保了极好的热均匀性。【RTP快速退火炉

产品特点

PRODUCTFEATURES

红外卤素灯管加热,冷却采用风冷:

灯管功率PID控温,可精准控制温度升温,保证良好的重现性与温度均匀性:

采用平行气路进气方式,气体的进入口设置在Wafer表面,避免退火过程中冷点产生,保证产品良好的温度均匀性.

RTP快速退火炉.jpg

大气与真空处理方式均可选择,进气前气体净化处理

标配两组工艺气体,最多可扩展至6组工艺气体,

可测单品片样品的最大尺寸为12英寸(300x300mm)

采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施,全方位保障仪器使用安全。

 

欧宝最新登录入口RTP快速退火炉

INDUSTRYAPPLICATIONS

氧化物、氮化物生长

硅化物合金退火

砷化家工艺

欧姆接触快速合金

氧化回流

其他快速热处理工艺

 

基本配置

BASICCONFIGURATION

RTP快速退火炉

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