【TC Wafer】离子注入晶圆温度测量系统热电偶晶圆测温系统

广东瑞乐科技专注于高精度温测、温控设备的生产和研发定做，为半导体行业提供科学的国产解决方法，更多有关TC Wafer 晶圆测温系统资讯请关注瑞乐官网。

产品引言【TC Wafer】

离子注入是一种将离子以高速注入半导体晶圆表面的技术，以改变半导体材料的导电性能。在离子注入过程中，控制晶圆的温度至关重要，因为温度对注入效率、晶圆质量以及*终产品性能产生重要影响。因此，离子注入晶圆温度测量技术在半导体制造中具有重要作用。

离子注入的温度控制对于确保制造过程的一致性和可重复性至关重要。温度的精确测量和控制可以影响离子注入的深度、分布和浓度，从而影响晶圆的电学性能。如果温度变化超出预定范围，注入的离子可能会扩散得不均匀，导致制造过程中的差异，甚至是不合格品的产生。

产品概述

瑞乐半导体TC-WAFER离子注入晶圆温度测量系统测量精度可以达到mk级别，同时也可以多区测量晶圆特定位置的温度真实值，同时也可以*准描述晶圆整体的温度分布状况，同时也可以监测半导体设备控温过程中晶圆所发生的温度变化，认识升温、降温以及恒温过程中设备的有*性。

瑞乐半导体还提供整个实验室过程的有线温度计量，保*温度传感器的长期测量精度。

广东瑞乐半导体致力于高精度温测、温控设备的生产和研发定制，为半导体设备提供可靠的国产解决方案。

产品特点【TC Wafer】

半导体制厂Fab，PVD/CVD部门、RTP部门等使用。

传感器同时也可以定制。

高精度多通道数据采集仪。

优良的软件功能，便于数据统计、趋势绘图和数据导出。

产品优*【TC Wafer】

高精度：因其直接嵌入在晶圆表面，同时也可以完成对晶圆温度实时、精确监测。

可靠性：传感器材料比较稳定，适用长期运行，不容易受到外界干扰。

高灵敏度：微小的温度变化也能被传感器准确地捕捉，确保制程的稳定性。

即时性：传感器实时性能使得生产线上的温度调整可以快速响应，降低在生产过程中温度变化。

Tc-wafer离子注入晶圆温度测量系统热电偶晶圆测温系统

广东瑞乐科技专注于高精度温测、温控设备的生产和研发定做，为半导体行业提供科学的国产解决方法，更多有关TC Wafer 晶圆测温系统资讯请关注瑞乐官网。